JH-1020 Chất làm sạch wafer silicon đơn / Chất tẩy rửa lát silicon PH 12.0-14.0

1. Tóm tắt
Đây là sản phẩm được cấp bằng sáng chế để khử mức độ điện tử và miếng silicon cấp năng lượng mặt trời trong lĩnh vực CNTT và pin mặt trời, và số bằng sáng chế là ZL200710020269.6.Sản phẩm này chứa nhóm kép có hiệu suất tốt trong quá trình nghiền xà phòng hóa nhũ tương thành dầu thực vật có dầu khoáng, chất lỏng, cũng như trong quá trình nghiền phức tạo thành ion kim loại.

2. Tính năng
1) các sản phẩm nhóm đơn có PPR hoàn hảo (tỷ lệ giá hiệu suất)
2) không chứa canxi, magiê, kim loại, đồng, chì và phốt pho và đáp ứng yêu cầu của ROHS.
3) bọt thấp, không tràn bọt khi làm sạch bằng sóng siêu âm.
4) hiệu suất tẩy dầu mỡ tốt để đáp ứng yêu cầu của khu vực CNTT có độ chính xác cao.

3. Hướng dẫn
1) cho nước tinh khiết vào bể làm sạch đến 3/4, sau đó thêm chất có nồng độ 3% -5%, thêm nước đến mức làm việc, cuối cùng, đun nóng dung dịch tắm cho đến nhiệt độ làm việc.
2) cần thay đổi hoàn toàn dung dịch tắm sau khi tẩy một lượng silicon nhất định.
3) giảm thời gian tiếp xúc trong không khí để tránh quá trình oxy hóa.
4) nhiệt độ làm việc 50-65 độ, thời gian xử lý: 2-5 phút.

4. Ghi chú
1) thanh năng lượng mặt trời không thể chạm vào nước, cần nhúng vào chất lỏng hoặc chất tẩy nhờn nếu không thể làm sạch kịp thời.
2) cần thải bỏ thanh năng lượng mặt trời kịp thời ngay khi nó đi vào quá trình tẩy dầu mỡ để tránh bị khô trong không khí.
3) giữ cho thanh năng lượng mặt trời luôn ướt khi khử keo để tránh bị khô trong không khí.
4) để tránh mảnh vỡ, cần tắt công tắc bong bóng của bể số 1 và số 2 khi tẩy dầu mỡ bằng siêu âm, sau đó bật công tắc sau khi sửa.
5) cần thay bể số 5.6 và 7 sau một chu kỳ tẩy dầu mỡ.
6) không thể chạm vào miếng silicon.Công nhân phải đeo găng tay để tránh dấu vân tay.
7) để đạt được độ hở, cần phun miếng silicon ít nhất 30 phút trước khi khử keo.

5. Bổ sung
1) đóng gói: 20kg/thùng (2kg/chai), 25kg/thùng nhựa, 1000kg/thùng
2) thời gian hiệu lực: một năm